フェロ&ピコシステム研究部

マイクロ・ナノ加工技術

京都大学工学研究科田畑研究室との連携研究

●ポリマー架橋度制御露光によるマイクロ流体デバイスの製作

●マイクロ流体デバイスの蓋を貼るプロセスが不要な新規加工プロセスを構築

目的・背景

背景

●バイオチップやDNAチップなどの流体デバイスの盛んな研究

●試薬や血液などの検体の微量化を目指した流体デバイス流路のマイクロ化

●流体デバイスの製作における蓋を貼るプロセスに問題
   接着剤の流路への滲出

目的

●移動マスクUVリソグラフィー技術を駆使して、マイクロ流体デバイスの蓋を貼るプロセスを省略した新規な加工プロセスの構築

通常のマイクロ流体デバイス

本技術の特徴

  1. 移動マスクUVリソグラフィー技術
    ・厚膜ネガレジストを用いて、移動マスクUVリソグラフィー技術により、露光量にグラディエーションを与え、レジストの架橋度を制御し蓋を残したマイクロ構造体を製作
    ・本方法を用いて、高アスペクト加工、順テーパー加工、逆テーパー加工などの3次元マイクロ構造体を製作することが可能
レジスト現像結果 非常に簡便なプロセスで蓋を貼る必要のないマイクロ流体デバイスが加工できる。
露光・現像ノウハウ

KRIからのご提案/今後の展開/期待される成果など

●各種マイクロ流体デバイスの製作

●レジストの半架橋技術による、ポーラスフィルターの製作

●各種高アスペクト構造体の製作

●フラクタル撥水面の製作

●光学部品への応用

加工例
お問い合わせ先
お問い合わせ、お見積もりのご依頼などは、下記にご連絡ください。
株式会社KRI フェロ&ピコシステム研究部
TEL:075-322-6832
fax:075-315-3095
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