ポリシルセスキオキサン系表面処理技術

液相法により各種基材へ表面処理・機能性膜形成
各種デバイスへ応用展開

目的・背景

  • ●各種ケイ素系ハイブリッド材料の検討を実施
  • ●T8、Tn、Q8など各種ポリシルセスキオキサン素材の合成を実施
  • ●珪素化合物を中心とした液相成膜技術をベースに、ミクロンレベル〜単分子膜までの表面処理・機能性膜の形成実績

本技術の特徴

☆材料設計の自由度を生かし、各種用途・目的への適用が可能

  • ●SiO2を中心としたハードコート、ガスバリア膜の形成が可能
  • ●各種基材上へのケイ素系表面処理、ケイ素系機能膜のオーダーメード作成に対応可能
  • ●各種表面処理を利用した各種応用研究へ対応可能

用途展開

●ハードコート
  ・高強度、耐熱性ハードコート
  ・PSQ系重合膜の適用
  ・ケイ素系ポリマーの適用

●ガスバリア又は封止材
  ・ケイ素系ポリマーによるSiO2緻密膜の形成
  ・PSQとの積層化による
    −フレキシビリティ付与
    −基板密着性付与

●防蝕コート
  ・ケイ素系ポリマーによるSiO2緻密膜の形成
  ・腐食防止:耐酸化、耐水、耐化学腐食

●撥水・滑水コート
  ・フッ素含有シロキサン重合体による処理膜の形成
    −ガラスなど無機基板、樹脂基板への撥水・滑水処理